極紫外光微影(EUV)技術較現有先進製程使用的浸潤式微影技術，具提升良率及縮短生產時間的效益，為半導體業界視為讓摩爾定律往下延續的重要關鍵技術。
艾司摩爾EUV系統NXE3300B今年第1季在客戶端測試中達到24小時內曝光超過1000片晶圓，EUV已接近量產階段。
艾司摩爾指出，至今年第1季已累績出貨8台NXE3300B；其中，有2台出貨台積電，台積電這2台NXE3300B將升級到新一代的NXE3350B。
另外，台積電去年11月也下單採購2台NXE3350B，將於今年完成出貨。
艾司摩爾今天宣布，接獲1家美國客戶大單，將至少採購15台EUV系統，其中，2台NXE3350B也將於今年底前完成出貨；這家客戶預計將EUV系統用於未來先進製程中，支援新世代產品研發和試產。