不讓漢微科專美於前 科磊推出新機支援20奈米光學檢測

光學儀器檢測裸晶片圖，科磊提供。(鉅亨網記者許庭瑜翻拍)

不讓漢微科推出的電子光束檢測(E-beam)專美於20奈米以下的檢測，KLA-Tencor公司(科磊)宣佈推出Teron™ SL650，支援 20nm 及更小設計節點。KLA-Tencor副總裁兼光罩產品事業部(RAPID)總經理熊亞霖表示，光學檢測速度比電子光束快100，甚至1000倍，認為未來在需求上還是會大於電子光束。

Teron™ SL650是專為積體電路晶圓廠提供的一種新型光罩品質控管解決方案，採用193nm 照明及多種 STARlight™ 光學技術，提供必要的靈敏度和靈活性，以評估新光罩的品質，監控光罩退化，並檢測影響良率的光罩缺陷，例如在有圖案區和無圖案區的霧狀增長或污染。此外，Teron SL650 擁有業界領先的產率，可支援更快的生產週期，以滿足檢驗更多數量的先進多重曝光成型光罩的需要。

熊亞霖表示，對於積體電路製造商而言，瞭解光罩狀況是圖案成像製程控管的核心要素，因為光罩品質變化能對印出的每一片晶圓造成毀滅性影響。Teron SL650採用了最先進的光罩檢測技術，生產出一款具有先進靈敏度、高產能和可擴展至未來節點能力的光罩品質控管系統。透過監測新光罩的關鍵缺陷，並在生產期間識別掩模圖案的累積缺陷和變化，Teron SL650 能夠協助晶片製造商保證裝置良率、性能和生產週期。

Teron SL650 使用STARlightSD™和STARlightMD™在單晶片和多晶片光罩上創造出更勝一籌的缺陷擷取率和全面的檢測範圍，藉此支援晶圓廠內各種類型的光罩。晶片製造商還可以使用創新型 STARlightMaps™ 技術來追蹤光罩隨著時間的退化，並確定臨界尺寸 (CD)、薄膜厚度、抗反射層以及光罩上的其他變異——這些光罩品質變化會影響微影製程視窗或圖案印刷。此外，Teron SL650 與超紫外線 (EUV) 相容，能夠與積體電路製造商及早協作，滿足晶圓廠對 EUV 光罩的要求。

多台Teron SL650 光罩檢測系統已在世界各地的代工廠、邏輯電路與記憶體生產廠安裝，用於新光罩的品質檢測，以及先進積體電路製造中所用光罩的重新檢驗。為了保持高性能和高產能，滿足最先進的生產需要，Teron SL650 系統由 KLA-Tencor 的全球綜合服務網路提供支援。