(中央社訊息服務20240912 13:48:23)
恩萊特科技近期受邀參加荷蘭半導體國家隊（TeamSemiconNL）創新訪團拜訪國際矽光子異質整合聯盟（HiSPA）活動，此次活動匯聚了來自光電與半導體產業的業界領袖與學術專家，共同研討如何在全球人工智慧（AI）及新興應用推動下，加強雙方合作，共同構建積體光路與異質整合的創新平台。作為台灣的電子設計自動化（EDA）解決方案供應商，恩萊特科技總經理蘇正宇在活動中分享了公司在矽光子設計及EDA領域的創新技術，透過完整的解決方案，實現了從元件設計到系統模擬的完整流程，大幅縮短設計周期並提升設計精度，幫助客戶加快產品上市並增強競爭力。
恩萊特科技引進的矽光子設計自動化(EPDA)工具套件，涵蓋從元件、晶片到系統層級的全方位模擬與驗證功能，為業界提供最尖端且全面的矽光子設計生態系統。 1.元件設計： Siemens EDA的L-Edit及Photonics解決方案具備強大的功能，能夠讓工程師直接在Layout平台上完成曲線光波導設計，無需依賴其他外部工具，顯著簡化了矽光子元件的設計流程。 2.晶片模擬：多層次的模擬解決方案，支援從Schematic到完整晶片設計的模擬過程，能夠處理光電融合的需求，包括非線性光纖、DSP分析、TDECQ測試及與Matlab的聯合模擬，適用於異質系統整合、調變器及頻寬建模等複雜應用場景。此外還可透過Schematic驅動佈局生成（SDL）和佈局生成Schematic（LDS）的雙向轉換，確保設計與佈局之間的一致性，有效提高設計效率並降低錯誤風險。 3.系統驗證：整合業界標準的Calibre DRC，實現全面的佈局檢查與設計規則驗證，大幅降低生產風險，還能滿足複雜多樣的設計需求，確保產品能夠順利進入製造階段。
恩萊特科技在此國際技術交流中，不僅展示了其在矽光子領域的專業實力，也期待能與國際夥伴深化合作，共同推動矽光子技術的創新與應用。 未來，恩萊特科技將持續致力於為矽光子設計提供從概念到實現的設計、模擬與驗證解決方案，並期待在未來合作中，透過西門子EDA的工具與平台，為台灣和全球矽光子產業提供更高效率的設計，推動矽光子技術的進一步發展與應用。 https://www.enlight-tec.com/