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恩萊特科技受邀參與台荷國際技術交流 共同推動矽光子產業發展

中央社/ 2024.09.12 13:48

(中央社訊息服務20240912 13:48:23)恩萊特科技總經理蘇正宇於台荷國際交流活動分享矽光子設計自動化(EPDA)解決方案,強調其加速設計流程的重要性。恩萊特科技/提供。

恩萊特科技近期受邀參加荷蘭半導體國家隊(TeamSemiconNL)創新訪團拜訪國際矽光子異質整合聯盟(HiSPA)活動,此次活動匯聚了來自光電與半導體產業的業界領袖與學術專家,共同研討如何在全球人工智慧(AI)及新興應用推動下,加強雙方合作,共同構建積體光路與異質整合的創新平台。作為台灣的電子設計自動化(EDA)解決方案供應商,恩萊特科技總經理蘇正宇在活動中分享了公司在矽光子設計及EDA領域的創新技術,透過完整的解決方案,實現了從元件設計到系統模擬的完整流程,大幅縮短設計周期並提升設計精度,幫助客戶加快產品上市並增強競爭力。

恩萊特科技引進的矽光子設計自動化(EPDA)工具套件,涵蓋從元件、晶片到系統層級的全方位模擬與驗證功能,為業界提供最尖端且全面的矽光子設計生態系統。 1.元件設計: Siemens EDA的L-Edit及Photonics解決方案具備強大的功能,能夠讓工程師直接在Layout平台上完成曲線光波導設計,無需依賴其他外部工具,顯著簡化了矽光子元件的設計流程。 2.晶片模擬:多層次的模擬解決方案,支援從Schematic到完整晶片設計的模擬過程,能夠處理光電融合的需求,包括非線性光纖、DSP分析、TDECQ測試及與Matlab的聯合模擬,適用於異質系統整合、調變器及頻寬建模等複雜應用場景。此外還可透過Schematic驅動佈局生成(SDL)和佈局生成Schematic(LDS)的雙向轉換,確保設計與佈局之間的一致性,有效提高設計效率並降低錯誤風險。 3.系統驗證:整合業界標準的Calibre DRC,實現全面的佈局檢查與設計規則驗證,大幅降低生產風險,還能滿足複雜多樣的設計需求,確保產品能夠順利進入製造階段。

恩萊特科技在此國際技術交流中,不僅展示了其在矽光子領域的專業實力,也期待能與國際夥伴深化合作,共同推動矽光子技術的創新與應用。 未來,恩萊特科技將持續致力於為矽光子設計提供從概念到實現的設計、模擬與驗證解決方案,並期待在未來合作中,透過西門子EDA的工具與平台,為台灣和全球矽光子產業提供更高效率的設計,推動矽光子技術的進一步發展與應用。 https://www.enlight-tec.com/

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