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Gigaphoton公司以EUV測試光源創造發光效率5%的世界記錄

中央社/ 2016.10.21 00:00
(中央社訊息服務20161021 09:46:03)專門為EUV微影量產工廠開發的測試光源同時達到平均功率100W的穩定工作及5%的發光效率

日本栃木縣小山市--(美國商業資訊)--微影光源的主要生產廠商—Gigaphoton株式會社宣布:日前完成了一種雷射激發電漿(Laser Produced Plasma,LPP)光源的測試光源註),旨在用於目前正在開發的EUV曝光機。這種測試光源是在最先進的半導體量產線作業,以95%的高能率、平均功率100W的穩定運轉實現了5%的發光效率,屬於目前世界最高水準。

Gigaphoton發布的消息指出:截至目前,該公司正在開發一種碎屑清除技術,這種技術使用了20μm以下的微型液滴的供給技術、採用固體雷射驅動的改良型前導脈衝,與採用新引進的高頻放電激發式三軸正交型二氧化碳雷射放大器(三菱電機株式會社生產)驅動的高光品位主脈衝束的組合、改進型能量控制技術、以及Gigaphoton自主開發的磁場技術,7月份在原型機上達到了130W以上的連續運轉。此次發布的測試光源是將這一系列新技術運用到以組裝到EUV曝光機中為前提設計的系統中開發出的高階產品,能率比(運轉時間與發光時間的比例)達到95%,遠遠高於原型光源,功率達到105W,運轉穩定,發光效率成功達到了5%。這是決定半導體產能的平均功率,相當於100W,其性能可以說超過了使用者現階段的要求,其運轉驗證的成功向著實現最先進半導體生產線的目標邁出了一大步。

Gigaphoton公司副總經理兼技術長溝口計先生指出:「應用於最先進半導體量產線的測試光源實現了95%的高能率,平均功率達到100W,運轉穩定,實現了5%世界最高水準的發光效率,它預示著高功率、低運轉成本、工作穩定的EUV光源距離上市已為時不遠。我們確信,本公司這種高度的技術能力與針對量產的開發努力在加速開發採用下一代曝光技術的EUV曝光機的同時,還將為半導體產業的發展以及物聯網社會的實現做出貢獻。」

注)Gigaphoton公司按照專門為EUV微影量產工廠開發的規格設計的光源,別名「高功率驗證機」。

*本產品的詳細內容預計於10月24日~26日在廣島舉辦的2016  International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography上进進行報告。

*本產品採用了國立研究開發法人“新能源及產業技術總合開發機構(NEDO)”的輔助程式的成果。

Gigaphoton公司簡介

Gigaphoton成立於2000年,是一家雷射供應商,自成立以來不斷為全球的半導體生產廠商提供有價值的解決方案。其中,LPP EUV解決方案是Gigaphoton公司開發的一項創新型技術,已經取得專利,為性價比及生產性優異的量產型EUV曝光機的實現充當了開路先鋒。Gigaphoton時刻以客戶為中心,從產品研發到生產、銷售及維護,為用戶提供業界最高水準的支援。關於詳細介紹請造訪本公司的網站:www.gigaphoton.com。

新聞發布稿中記載的資訊為發表時所能獲得的資訊,如有變更,恕不另行通知。

請前往 businesswire.com 瀏覽源版本: http://www.businesswire.com/news/home/20161020005526/zh-HK/

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Gigaphoton株式會社

經營企畫部

聯絡人: 松井章記

電話: +81-285-37-6931

電子信箱: web_info@gigaphoton.com

訊息來源:business wire

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