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電子顯微鏡 鎖定奈米製程檢測

中央社/ 2013.11.28 00:00
(中央社記者鍾榮峰台北28日電)測試設備大廠愛德萬測試(Advantest)推出多功能整合量測掃描式電子顯微鏡系統,因應1X奈米製程光罩缺陷檢測需求。

愛德萬測試指出,行動裝置終端市場需求強勁,半導體產業在短期內將進入1X奈米製程量產階段,業界對於超小尺寸元件高穩定性、高精準度圖樣缺陷檢測能力的需求,將明顯提高。

在功能上,愛德萬測試表示,電子顯微鏡新品,擁有圖樣缺陷檢測能力,可支援業界將面臨的1X奈米製程,除應用在標準半導體微影光罩檢測,也可針對EUV光罩、NIL母模等下一代微影基板提供量測效能。

電子顯微鏡新品的專利運算技術和多重偵測器配置設定,可針對圖樣寬度、高度與側邊壁面角度,進行即時3D觀察量測與識別量測。

相關新品預計在明年(2014年)6月正式上市。

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