中國自製深紫外光刻機與長鑫存儲上市衝擊全球半導體股

【新聞中心／綜合外電】中國在半導體設備與記憶體產業傳出雙重利多後，全球晶片股周一普遍走弱。根據外電與市場報導，中國一支由政府支持的團隊已開始生產本土開發的深紫外光（DUV）微影設備，另一方面，長鑫存儲技術（CXMT）在上海證交所掛牌首日股價暴漲，也進一步加劇市場對中國半導體自主化進程的關注。

DUV設備傳出量產　外界聚焦自主替代

市場消息指出，這批DUV設備屬於浸沒式微影機，為晶片製程中的關鍵設備之一。報導引述知情人士稱，這項技術由上海宇量昇等相關單位推動，並與昇騰與華為體系有關；首批設備預計將供應給中芯國際、華虹半導體及長鑫存儲等中國晶片廠。

不過，業界人士也提醒，這類設備目前仍處於初步階段，規模不大，且在效能與可靠度上仍落後於荷蘭ASML等國際龍頭。相關報導指出，今年可望交付的數量約僅數台，顯示中國在高階晶片設備自製路線上雖有突破，但距離大規模商用仍有明顯差距。

CXMT首日暴衝　記憶體鏈被重新定價

與此同時，CXMT上市首日股價大幅飆升，市場解讀為中國記憶體自主化敘事再度升溫。外電報導指出，該公司掛牌後市值迅速膨脹，成為投資人追逐的焦點，也帶動外界重新評估中國在DRAM供應鏈中的角色。

這波行情對全球記憶體族群形成立即衝擊。市場數據顯示，美國掛牌的美光科技下挫，SK海力士ADR與SanDisk也明顯走低，顯示投資人擔憂中國在記憶體市場的擴張，可能壓縮既有國際廠商未來的定價與獲利空間。

西方管制效應受檢驗　ASML壓力再升

DUV進展之所以引發敏感反應，在於這類設備是中國目前可取得的最高階光刻工具，而更先進的EUV設備仍受出口限制。分析人士指出，若中國能逐步提升DUV國產化能力，將有助於縮短成熟製程與部分先進製程的瓶頸，也使外界重新檢視西方出口管制的長期效果。

市場人士認為，ASML仍保有技術與可靠度優勢，但投資人對中國替代方案的進展高度警戒，已足以在短線上壓抑相關設備與晶片股表現。部分分析師則認為，記憶體類股近期回檔後，估值已較前期降溫，反而可能吸引部分資金逢低布局。

產業鏈影響擴大　後續觀察三大重點

接下來市場將聚焦三個方向：第一，中國DUV設備的實際良率與交付節奏；第二，CXMT上市後的資本支出與擴產計畫；第三，國際設備與記憶體大廠是否因中國競爭加速調整策略。

整體來看，這起事件不只是單一公司或單一設備的消息，而是中國半導體自主化進程再度推升市場風險定價的訊號。對全球晶片產業而言，真正的壓力不僅來自短線股價波動，更來自未來供應鏈版圖可能出現的結構性變化。

*圖片為AI示意圖