台積電機密外洩案判了！聯手翻拍機密數百張　主嫌重判10年

（社會中心／綜合報導）智慧財產及商業法院審理一起涉及半導體機密外洩案件，今（27日）宣判。曾任職台積電的工程師陳力銘，被控勾結仍在職工程師竊取2奈米製程等機密資料，遭判刑10年；同案被告吳秉駿、戈一平、陳韋傑分別判處3年、2年及6年徒刑，全案仍可上訴。

判決指出，陳力銘於離開台積電後，轉任東京威力科創相關業務，期間涉嫌與仍在台積電任職的工程師接觸，透過遠端登入與翻拍畫面等方式，取得2奈米晶片製程及實驗數據等資料。另名工程師陳韋傑則被認定涉提供14奈米以下製程相關技術資料。法院認定相關行為涉及《國家安全法》所列國家核心關鍵技術之營業秘密。

依判決內容，陳力銘與陳韋傑目前仍在押；吳秉駿、戈一平在審理期間分別以300萬元及200萬元交保，並限制住居、出境及出海，且須接受科技設備監控。

此外，法院也審理相關企業與人員責任。陳力銘在東京威力任職期間的主管盧怡尹，被控於案件調查期間刪除公司雲端內相關資料，涉犯滅證罪，判處10個月徒刑、緩刑3年。東京威力公司則因涉案遭判處罰金新台幣1.5億元，並宣告緩刑3年。

本案源於檢調單位於2025年接獲台積電通報疑似竊密事件後展開調查，並由調查局等單位執行搜索與約談。檢方後續依《國家安全法》及《營業秘密法》等罪嫌提起公訴，並分兩波追加起訴相關涉案人員與法人。

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