記者莊漢昌／台南報導
統懋半導體股份有限公司新市廠因造成土壤及地下水之含氯有機污染物、氟鹽超過管制標準，107年間被公告為污染整治場址，在臺南市環保局嚴格監督下，已於112年6月完成污染改善且經驗證合格，環境部113年1月15日公告解除列管。
臺南市環保局為釐清工業區地下水污染整治責任，105年辦理新市工業區土壤及地下水污染調查，發現土壤及地下水受有機溶劑污染，遂依規定於107年3月28日公告為土壤及地下水污染控制場址。歷經相關調查及應變必要措施，環境部環管署同年8月15日公告為土壤及地下水污染整治場址，並處污染行為人統懋半導體股份有限公司15萬元罰鍰。
環保局長許仁澤表示，除要求該公司提出整治計畫進行改善，整治期間定期邀集專家學者召開會議，督促行為人戮力改善及預防二次污染。該公司為顯企業責任，原核定5年之改善期程，在環保局嚴格監督下，提早2年於112年6月完成污染改善工作，花費整治金額達2千6百萬元，
環保局於112年10月進場驗證，結果顯示土壤及地下水污染物濃度已低於管制標準，且經環保署同意解除土壤及地下水污染整治場址列管，完成土地活化面積約2萬平方公尺。
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