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Fractilia將隨機性誤差量測導入量產晶圓廠,提升極紫外光微影圖案化的管控與良率

台灣產經新聞網/世紀奧美公關 2023.02.22 00:00
新聞圖片

FAME 300系列提供即時的隨機缺陷監控,協助量產晶圓廠在幾分鐘內找出潛在的製程問題

 

台北,2023222 — 適用於先進半導體製造的隨機性(stochastics)微影圖案誤差量測與控制解決方案領導業者Fractilia今天宣布Fractilia Automation Metrology Environment(FAME™)產品組合推出最新生力軍:FAME 300。專為量產(HVM)晶圓廠製造環境所設計的FAME 300,可針對先進節點之微影圖案化誤差最大來源隨機效應(stochastics effects),提供即時測量、檢測與監控。透過FAME 300,晶圓廠可以在數分鐘內找出由隨機變異所引起的潛在製程問題,並進而採取快速的校正動作,提升微影圖案化製程的管控並進而優化良率。

 

FAME 300可以針對各種隨機效應與臨界尺寸(CD)量測,運用FILM™專利技術,提供準確與精密測量的晶圓廠解決方案。Fractilia的產品皆已通過半導體先進製程研發測試使用,以及半導體製造商、設備商與材料供應商製程的開發環境考驗。所有以Fractilia產品產生的測量數值,都可以從研發轉移至量產,並可以完全自動化。

 

Fractilia技術長Chris Mack博士表示:「先進技術的晶圓廠目前正遭遇顯著增加的隨機變異挑戰,隨著半導體產業嘗試以持續擴充的規模推進摩爾定律,這種情況只會越來越糟。為了控制隨機性誤差,我們必須對它進行準確量測;如此一來,全新的晶圓廠製程才能進一步提高良率。我們將FILM量測引擎和專為高通量、高可靠性與低延遲打造的全新FAME 300平台進行整合,目前已經可以把我們的隨機性誤差測量能力導入晶圓廠的量產環境,使我們的客戶得以更好地管控他們的量產製程,且由於產品不用再承受隨機性誤差的風險,甚至有可能省下好幾個月的時間。」

 

全新的FAME 300平台利用基於Kubernetes叢集且具備高度擴充性的架構,能夠測量晶圓廠全廠所有掃描式電子顯微鏡(SEM)影像所需的通量。FAME 300可保證讓晶圓廠在幾分鐘內取得操作資料,並提供其前饋或回饋的製程控制。FAME 300的應用範圍包括在線任務與量產監控的關鍵應用場景,以及批量處置(lot dispositioning)、即時偏移檢測、邊緣圖案置放誤差優化、微影與蝕刻製程工具監控、SEM設備健康監控、SEM跨機台及跨供應商設備之匹配、蝕刻工具腔體匹配等其它場景。Fractilia針對量產純監控的應用外,並提供額外的工具配置,給予客戶更高的價值。

 

「精準去除量測雜訊」的量測值能為晶圓製造變異提供完整全貌

Fractilia的FAME解決方案產品組合使用專有且獨特、符合物理定律的SEM演算模型與資料分析方法,可從SEM影像量測並修正量測機台上隨機與系統性的雜訊,提供晶圓微影圖案(on-wafer)上實際的量測值,而非影像上(on-image)參雜量測機台雜訊的圖案量測值。FAME平台可同時量測所有主要的隨機效應,包括線邊粗糙度(LER)、線寬粗糙度(LWR)、局部線寬均勻度(LCDU)、局部邊緣圖案置放誤差(LEPE)、隨機缺陷偵測及其他效應。FAME平台提供業界最佳訊號對訊噪的邊緣偏移檢測,訊噪比相較於其它解決方案高出5倍,且每張SEM影像可以擷取出超過30倍的特徵資料。

 

此外,FAME平台適用於所有的SEM設備供應商及跨世代不同機型,並可以讓SEM的設備間匹配度提升5到20倍,同時讓SEM產能提升超過30%。客戶不但可以在同一世代與型式的SEM工具上達成史無前例的匹配效能,更可以在不同世代、甚至在不同SEM設備供應商之間辦到。

 

Fractilia執行長暨總裁Edward Charrier表示:「Fractilia的FILM技術是業界公認的製程隨機性誤差量測標準。到目前為止,領先業界的半導體元件製造商、大型設備製造商、材料供應商、研究聯盟與其它單位的研發機構,有超過1,000家的用戶使用我們的FILM產品,並在光學接近修正(OPC)、微影、蝕刻、沉積、量測與檢驗、材料與其它製程中,累積許多經實證考驗的應用場景。客戶使用我們的產品所量測到的SEM影像數量,每年都會增加一倍以上。半導體業界顯然需要將Fractilia開發的精準隨機性誤差量測技術應用於量產。現在,我們全新推出的FAME 300系統能夠協助我們的客戶,實現更準確、更紮實地管控他們的量產微影圖案化製程。」

 

Fractilia出席SPIE先進微影+微影圖案化大會

Fractilia將於下週加州聖荷西市聖荷西會議中心舉行的SPIE先進微影+微影圖案化大會上,將針對隨機性誤差的量測與控制解決方案效益提出多項報告。欲取得更多2023年SPIE先進微影+微影圖案化大會上關於Fractilia的相關報告資訊,請點此處

 

更多相關資訊

敬請至Fractilia官方網站:https://www.fractilia.com/manufacturing/,瀏覽更多Fractilia FAME 300系統的相關資訊。亦可前往Fractilia Academy網站:https://www.fractilia.com/public-academy/,取得更多關於Fractilia隨機性誤差量測與控制解決方案的技術概述,以及近期的會議與技術文件。

 

關於Fractilia

Fractilia是先進半導體製造中隨機性(stochastic)誤差量測與控制解決方案的領導業者,Fractilia應用Fractilia反向線掃描模型(Fractilia Inverse Linescan Model;FILM™)的專利技術,提供高精準度的隨機性誤差量測。隨機性誤差是先進製程上最大的微影圖案(patterning)錯誤來源,客戶可以透過FAME™提升元件的良率、效能,以及先進曝光機、蝕刻機的生產力。Fractilia的產品為整個半導體製造產業提供微影及蝕刻製程最佳化的解決方案,且已經被前五大晶片製造商中的四家業者所採用。Fractilia的解決方案包括:製程開發與工程分析使用的MetroLER™,及提供晶圓廠提升良率與生產應用的Fractilia自動化量測平台(Fractilia Automated Measurement Environment;FAME™)。Fractilia總部位於美國德州奧斯汀,且握有涵蓋FILM™與相關技術的多項專利與數百項商業機密。更多相關資訊,請瀏覽:www.fractilia.com

 

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