中山大學獨創「超臨界流體技術」　助攻半導體新技術良率瓶頸

【記者王雯玲／高雄報導】中山大學物理系講座教授張鼎張獨創「超臨界流體低溫缺陷鈍化技術」，師生團隊成立奈盾科技（Naidun-tech）公司，有望助攻半導體新技術突破良率瓶頸，不僅獲得科技部價創計畫補助，更吸引日本第一大半導體設備商東京威力與台灣友達青睞，成為東京威力在台灣唯一投資的新創公司。

什麼是超臨界流體？張鼎張指出，超臨界流體是一種物質狀態，固體吸熱變液體，液體加熱變氣體，氣體再加壓超過臨界溫度及臨界壓力，物質兼具液體與氣體特性，就是超臨界流體。超臨界流體有較好滲透性和較強的溶解力，廣泛應用於萃取技術，常見包括萃取咖啡因，製造保養品、營養補充品與清潔劑等。

張鼎張說，「我們團隊則反其道而行，利用超臨界流體導入新物質。」在半導體尺寸微縮的趨勢下，可能有很多缺陷，運用在電子元件上可有效消除缺陷，讓元件性能與可靠度大幅提升。

張鼎張進一步解釋，好的3C產品有賴其電子元件性能與可靠度，然而元件產製過程會產生劣化效應，不同材料疊加界面處易產生懸鍵，即內部缺陷，如Micro LED側壁容易有很多缺陷，影響發光效率，若能妥善消除缺陷，就能讓效率提升。為了鈍化（消除）缺陷，常見手法是透過高溫活化，但元件加入金屬後，溫度最高僅能承受400度，傳統鈍化的高溫動輒800度，有材料使用上的侷限，也沒辦法做到深入的修復。

張鼎張說，一般高溫的製程只要200度到300度就可搞定。透過這項技術可修補半導體材料內的斷鍵，讓不好的元件回到正常特性，改善漏電及導通電流，滿足舊有製程無法滿足的需求。

「至於成立公司，那是個意外！」張鼎張表示，原本「只是源自於科學探索的樂趣」，但因超臨界狀態的物理現象很特殊，充滿許多未知值得研究，在這個領域持續投入了15年的時間，在科學探索的過程中挖掘出工程應用的潛力。

張鼎張指出，新創公司團隊由豐富經驗的成員組成，其中也有他指導畢業多年的學生，這些畢業生有多年業界經驗，他希望學術研發成果成立新創公司獲得投資是好的開始，未來團隊還是要不斷努力把新技術導入產業，讓這項技術發光發熱。


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