台積電EUV微影技術7奈米強效版製程　協助客戶產品大量進入市場

【大成報記者羅蔚舟／竹科報導】
台積電今(10/7)日宣布，該公司領先業界導入極紫外光（EUV）微影技術之7奈米強效版(N7+)製程，已協助客戶產品大量進入市場。導入EUV微影技術的N7+奠基於台積公司成功的7奈米製程之上，為6奈米和更先進製程奠定良好基礎。

N7 +的量產速度為史上量產速度最快的製程之一，於2019年第二季開始量產，在7奈米製程技術（N7）量產超過一年時間的情況下，N7+良率與N7已相當接近。

N7 +同時提供了整體效能的提升，N7 +的邏輯密度比N7提高了15％至20％，並同時降低了功耗，使其成為業界下一波產品中更受歡迎的製程選擇。台積公司亦快速布建產能以滿足多個客戶對於N7 +的需求。

EUV微影技術使台積公司能夠持續推動晶片微縮，因EUV的較短波長能夠更完美地解析先進製程的設計。台積公司的EUV設備已達成熟生產的實力，EUV設備機台亦達大量生產的目標，在日常運作的輸出功率都大於250瓦。

台積公司業務開發副總經理張曉強博士表示：「AI和5G的應用為晶片設計開啟了更多的可能，使其得以許多新的方式改善人類生活，我們的客戶充滿了創新及領先的設計理念，需要台積公司的技術和製造能力使其實現；我們在EUV微影技術上的成功，是台積公司不僅能夠具體落實客戶的領先設計，同時憑藉我們卓越的製造能力，亦能使其大量生產的另一個絕佳證明。」

N7+的成功經驗是未來先進製程技術的基石。台積公司的6奈米製程技術（N6）將於2020年第一季進入試產，並於年底前進入量產。隨著EUV微影技術的進一步應用，N6的邏輯密度將比N7提高18％，而N6憑藉著與N7完全相容的設計法則，亦可大幅縮短客戶產品上市的時間。

（圖／台積電今(10/7)日宣布，該公司領先業界導入極紫外光（EUV）微影技術之7奈米強效版(N7+)製程，已協助客戶產品大量進入市場。）