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QuantumClean(R)和ChemTrace(R)將展示如何降低晶圓代工廠的擁有成本

美通社/info@prnasia.com 2018.08.13 08:53

在2018年SEMICON Taiwan國際半導體展上開設技術講座

賓夕凡尼亞州誇克敦2018年8月13日電 /美通社/ -- QuantumCleanChemTrace將展示其超高純度清洗、自主研究開發塗層與微污染分析測試如何能夠幫助降低晶圓代工廠的擁有成本(CoO)。2018年9月5日至7日,相關技術講座計劃在2018年SEMICON Taiwan國際半導體展展出時間舉行,QuantumClean和ChemTrace展位號為J2734。該展會將在台灣台北南港展覽館舉行。

QuantumClean和ChemTrace將會發表關於原子層沉積(ALD)、化學氣相沉積(CVD)、擴散、蝕刻、離子注入、物理氣相沉積(PVD)超高純度清洗與Parts Quality Monitoring(零件質量監控)客戶解決方案的一系列簡要報告,讓原始設備製造商(OEM)、集成器件製造商(IDM)、原始配件製造商(OPM)和代工廠瞭解他們如何能夠降低擁有成本。進行發佈的報告主要是討論更加清潔的腔體如何能夠更快地啟動,更快的零配件周轉時間如何能夠減少庫存,更長的平均清洗間隔時間如何幫助提升生產效率和降低項目管理(PM)成本,以及不那麼積極的清洗方法和重新塗覆如何能夠幫助延長零件使用壽命。

Quantum Global Technologies總裁兼CEO Scott Nicholas對此解釋說:「 2018年SEMICON Taiwan國際半導體展的訪客能夠在我們的J2734展位上參加技術講座,瞭解我們所提供的與眾不同的服務如何能夠透過克服關鍵的半導體工藝腔體零件相關挑戰,來為客戶的營運帶來改進。」

拜訪QuantumClean-ChemTrace在J2734號展位上的技術講座專場,將能獲得QuantumClean-ChemTrace贈送的禮物。

Quantum Global Technologies, LLC總部位於美國賓夕法尼亞州費城郊區,ChemTrace®QuantumClean®均為其子公司。

在為半導體晶圓工廠、原始設備製造商(OEM)和原始配件製造商(OPM)提供10納米以下超高純度外包制程工藝工具腔體零件清洗與塗層服務、工藝工具零件壽命延長和制程工藝工具零件優化解決方案方面,QuantumClean目前是全球領導者。

QuantumClean於2000年成立,在致力於為客戶提供流程改善直至突破行業標準的持續更加清潔零件的基礎上,經營充滿創新的Advanced Technology Cleaning Centers®(先進技術清潔中心)。這些解決方案顯著降低了客戶的總擁有成本。依託位於8個國家的19家先進技術清潔中心和1500名員工,QuantumClean在全球範圍內提供無與倫比的清潔能力和便捷服務。該公司網址:quantumclean.com

25年來,ChemTrace在制程工藝工具腔體零件清潔效率方面提供獨立的分析驗證服務。ChemTrace在工藝工具零件、晶圓與沉積、化學品、清潔室材料、去離子(DI)水和空氣分子污染方面,提供領先的微污染分析服務。依託位於3個國家的4個實驗室和100多名員工,ChemTrace提供無與倫比的微污染分析和本地服務便利。該公司網站:chemtrace.com

傳媒聯繫人

QuantumClean:Meg Cox,電話:+1-215-892-9300,電郵:info@quantumclean.com

ChemTrace:Robin Puri,電話:+1-503-251-0979,電郵:info@chemtrace.com

QuantumClean、ChemTrace、Advanced Technology Cleaning Centers (ATCC)、Process Improvement through Consistently Cleaner Parts和Single Part Chemical Clean (SPCC)均為Quantum Global Technologies, LLC的注冊商標。

ACS (Atomically Clean Surfaces)、Alternative TWAS、Analytical & Engineering Services、C-Coat、Cleancoat、Cleaning、Coating & Testing Center of Excellence、Environmentally Clean Process (ECP)、Final Surface Finish (FSF)、QGT、M-Coat、PartSmart、PT3、QualClean、Selective Deposition Removal (SDR)、Service Request form (SRF)、Solution Based Chemistry、TechBriefs、The Perfect Order、The Perfect Qual、The Perfect Process Transfer、Tight-Coat、V-Clean、VeriClean、Waterless Acid、Y-Coat、Z-Coat、Smart、Lean、Clean and Green、Center of Excellence、Validated Ultra-High Purity與Maximum Productivity均為Quantum Global Technologies, LLC的商標。

 

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