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TopsilN中子照射晶圓技術國際研討會 探討矽晶圓創新應用

【大成報記者羅蔚舟/新竹報導】

環球晶圓丹麥子公司Topsil GlobalWafers A/S於9/16日在哥本哈根舉辦中子照射晶圓(Neutron Transmutation Doped;簡稱NTD)國際研討會,成功圓滿落幕。此研討會係介紹探討NTD矽晶片最新的創新和應用,吸引來自美洲、歐洲、亞洲以及大洋洲等世界各地的與會者遠道而來參加。會中也確認此材料大尺寸化的趨勢,200mm的產能需求將會上升,甚至300mm未來也有可能被考慮。

對於半導體來說,摻磷、硼等雜質於矽材料是最重要的技術。在摻雜技術中,又以中子照射(NTD)為最高端的技術。功率半導體是建構在NTD材料上,它賦予功率半導體對各項技術的推動,例如:現代高速電氣列車、電力傳輸等。看好人口不斷增加、人口遷移市區等趨勢,將會增加能源的消耗並有大量運輸的需要,所以研討會的眾多與會者對於NTD材料應用於消費性產品的前景皆持樂觀肯定的態度。

Topsil GlobalWafers A/S(前身為Topsil Semiconductor Materials A/S)自1970年代以來,至今都是全球NTD材料首屈一指的領導者。NTD矽材料研討會成功串連矽生產者、功率元件製造商、設備廠商等NTD矽晶圓的產業鏈,啟動NTD產品的發展能與消費者的最終需求趨於一致。Topsil GlobalWafers A/S是第一家將NTD啟動進入至商業市場的公司,Topsil GlobalWafers A/S已經顯示可以改善200mm NTD矽晶圓的均勻性,將有助於客戶去開發更先進的組件並提高客戶的生產良率,更進一步改善了高功率應用的效率。

Topsil GlobalWafers A/S是全球最主要的FZ(Float Zone)技術開發者以及FZ晶圓製造公司,亦是全球領先的中子照射超純矽晶圓供應商。今年七月初正式併入環球晶圓集團體系並開始挹注營收。環球晶圓因納入FZ產品,成為全球少數能完整供應CZ及FZ全產品的世界級領導廠商,促使環球晶圓集團於全球半導體的產業競爭力再提升。

(圖由環球晶圓提供/環球晶圓丹麥子公司Topsil GlobalWafers A/S於9/16日在哥本哈根舉辦中子照射晶圓(NTD)國際研討會,介紹探討NTD矽晶片最新的創新和應用,吸引來自美洲、歐洲、亞洲以及大洋洲等世界各地的與會者遠道而來參加。)

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