第42屆國際微米及奈米工程研討會(MNE)於9月19-23日在奧地利維也納的Reed Messe Wien展覽中心舉辦，半導體測試設備領導廠商愛德萬測試9/16宣布，該公司將在這項國際討會(MNE)的第25號攤位上，展示最新的F7000電子光束微影系統。
愛德萬測試表示，F7000電子光束微影系統不僅能提供高產量，並能以1Xnm的解析度在晶圓上投射出非常精準且平滑的奈米圖案。F7000的直接寫入技術使它十分適合作為研發設計工具，以及大型積體電路晶片(LSI)生產線上的解決方案，進行多樣少量的裝置生產。F7000系統的特徵投射(Character Projection)技術，不論在原型製造或生產上都可提供相當高的產量。
愛德萬測試的奈米科技解決方案產品組合，愛德萬測試表示，還包括可分別為晶圓、光罩提供即時3D測量與成像功能的E3310以及E3640多視角量測掃描式電子顯微鏡(MVM-SEM)系統。 在三閘極(Tri-Gate)製程方面，E3310晶圓MVM-SEM大幅提高了大量生產的效率。E3640光罩MVM-SEM系統的圖案測量功能於業界名列前茅，並可為標準光罩、極紫外光(EUV)光罩與奈米壓印(NIL)模板等應用帶來高產量。
愛德萬測試表示，E5610光罩缺陷檢測掃描電子顯微鏡(DR-SEM)是專為檢查、分類次世代光罩及空白片上的極小缺陷所設計。E5610系統擁有高度穩定、全自動的影像擷取功能，並具備關鍵光罩製造分析所需的長期操作穩定性及可靠度。
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