回到頂端
|||
熱門: 台北燈會 飛兒樂團 衛生紙

滿足高潔淨製程需求 追求產品良率再提升 荷蘭TNO與金屬中心攜手超潔淨製程汙染控制技術

中央社/ 2015.12.14 00:00
滿足高潔淨製程需求 追求產品良率再提升 荷蘭TNO與金屬中心攜手超潔淨製程汙染控制技術

(中央社訊息服務20151214 14:34:28)隨著半導體製程線寬持續微小化,產業界對於產品製程環境的潔淨度需求也日漸趨於嚴苛,為了獲取更高的產品良率,高階汙染控制方法將是不可或缺的必要技術。財團法人金屬工業研究發展中心與荷蘭應用科學研究院TNO在半導體產業相關技術開發上已合作多年。其中TNO的國際污染控制中心(ICCC),即是針對發展超潔淨控制領域技術產業,所成立之國際專業研究組織,成員皆具備先進的半導體設施或製造經驗。金屬中心今年九月受邀加入其會員之一,將攜手協助台灣設備系統廠、零組件製造商及設備終端使用者,共同面對超潔淨控制製造技術需求的挑戰。

金屬中心有鑑於國內半導體產業於汙染控制技術上的發展需求,故與工業局光電半導體設備產業計畫辦公室(OSEC)、SEMI Taiwan與台灣電子設備協會(TEEIA),共同邀請TNO半導體設備產業處處長Roland van Vliet博士與TNO超潔淨控制防治領域首席科學家Norbert Koster先生來台進行產研交流,並於12月9日在新竹科學園區舉辦「2015超潔淨製程污染控制及超潔淨製程設備設計技術研討會」,除了針對微污染的偵測、控制及防制技術發展進行深入探討外,並分享了超潔淨製程設備設計之寶貴經驗,提供國內業者開發半導體超潔淨製程技術上的重要參考。本次研討會國內相關領域重要廠商,如台積電、聯電、帆宣、京鼎、東捷、均華、均豪、旭東、日揚、勵威、廣運、台灣艾司摩爾等共多家廠商與業界人士共同與會交流。

金屬中心吳春森處長表示,台灣在半導體晶圓製程技術上雖然具有相當的技術領先,但隨著國際半導體業者技術提升與中國大陸半導體產業的資金投入,台灣正面臨沉重的競爭壓力,相關產業技術的再提升,將是必然需要不斷努力的地方。工業局光電半導體設備產業推動計畫辦公室(OSEC)林建憲博士表示,未來將持續針對如ICCC、雷射源開發、特殊表面處理等設備關鍵議題。透過國際攬才及頂尖技術引進,來與國內優勢技術相結合,將有效縮短設備研發時程,以促使台灣半導體產業技術持續領先並保持高度產業競爭力。

訊息來源:財團法人金屬工業研究發展中心

本文含多媒體檔 (Multimedia files included):

http://www.cna.com.tw/postwrite/Detail/185095.aspx

社群留言