台積電在2014年年報中指出，16奈米鰭式場效電晶體強效版(16FF+)製程技術去年第4季已完成所有可靠性驗證，7月可望進入量產，預期今年底前將可完成近60件客戶產品設計定案。
至於10奈米製程，台積電2014年研發著重於基礎製程制定、良率提升、電晶體效能改善及可靠性評估；預計今年進入試產，年底將有客戶產品設計定案，明年開始量產。
至於7奈米製程，台積電2014年開始進行進階研發，今年研發將著重於電晶體結構選擇、電晶體與導線的基本製程制定，及初步可靠性評估。
台積電明年將進行7奈米全面開發，預計2018年進入試產。
在微影技術方面，台積電表示，隨著解析度的強化，加上針對20奈米及16奈米開發的先進曝影技術，讓浸潤式微影技術能夠滿足10奈米技術的要求。
台積電同時指出，去年引進了第2台NXE3300極紫外光(EUV)曝光機，正與艾司摩爾(ASML)合作提升設備能力，以達到7奈米製程技術的要求；另外，針對7奈米以下製程，正評估多重電子束直寫技術。