積極大邁向智慧頂尖大學的交通大學，推展國際合作引領國內發展新世代高科技再傳佳績。交大於23日宣布和提供全球產業最先進高品質原子層沉積(ALD)技術的領先供應商芬蘭的Picosun Oy公司合作，雙方在交大跨領域光電科技研究中心共同建立聯合工業原子層沉積研究實驗室，該實驗室的成立和ALD技術的應用將推動微電子和光電子技術進入新的世代。
交大和Picosun公司未來將合作針對不同的應用，開發各種結合跨領域技術的解決方案。包括microelectronic devices for 7 nm technology node，高亮度發光二極管(HBLED)和高電子遷移率晶體管的微電子器件(HEMT)。此外，基礎研究和產業應用上的先進設備製造都是此實驗室的核心目標。
身為交大教授和IEEE & OSA fellow的郭浩中教授表示，Picosun公司是我們ALD技術供應方的首選，因為在ALD系統的設計和處理方面，Picosun有領先世界的經驗。我們很高興可以藉由這個合作來實現全新一代的微電子與光電子產品，加上交大在半導體領域的雄厚實力，我們在未來將有更多的成功機會。
Picosun Asia亞洲區執行長官暨Picosun集團應用總監黎微明博士表示：「台灣是世界上一流的半導體中心之一，而Picosun公司在ALD的尖端技術更是發展先進微電子及光電子元件製造的關鍵。和交大建立合作夥伴關係和聯合研究實驗室不僅能提供我們現有與未來客戶在地的技術支援，對於未來新一代產品可以有更緊密的合作關係，而ALD技術將是主要功臣。幾個月前成立的Picosun子公司Picosun Taiwan也會對這些服務加以支援。」
Picosun提供最先進的ALD薄膜技術，藉由新穎、尖端的塗布溶液和四十年的專業技術，讓工業大步躍進。現今PICOSUN™ ALD系統在全球每天都被應用在許多主要產業的生產上。Picosun總部設在芬蘭，而在美國、中國、台灣和新加坡都設有分公司，並且在全球佈署行銷和支援網絡。
(圖由交大提供／交通大學與提供全球最先進ALD薄膜技術的芬蘭Picosun Oy公司，共同在交大跨領域光電科技研究中心，建立聯合工業原子層沉積研究實驗室，共同推動為電子和光電子技術進入新世代。圖左至右是原晶半導體設備副總經理林宜豐、Picosun公司亞洲區執行長官暨Picosun集團應用總監黎微明博士、交通大學研發長張翼教授、Picosun公司董事長暨總經理Kustaa Poutiainen、交通大學主任秘書裘性天教授、交通大學副國際長郭浩中教授。)