回到頂端
|||

蕃新聞

熱門: Nokia3310 電玩 恐龍法官

原子層沉積技術平台 助半導體製程躍升

中央商情網/ 2015.03.04 00:00
(中央社記者林孟汝台北2015年3月4日電)為推動台灣半導體產業發展,國研院整合產、學、研三方能量成立「原子層沉積聯合實驗室」服務平台,將提升台灣半導體製程設備技術與化學材料開發的研發實力。

半導體製程中,原子層沉積技術(atomic layer deposition, ALD)由於具有極佳的薄膜成長厚度控制性、階梯覆蓋性與大面積均勻性,已成為半導體產業的1項主流技術,然而目前台灣的半導體產業設備供應鏈中,鮮少具有競爭力的薄膜製程設備供應商。

依照ALD產業成長趨勢,2015年台灣在ALD設備及原材料的需求,預估將達到新台幣77億元產值,但台灣半導體廠必須仰賴國外設備商提供製程設備及前驅物材料,造成業者成本負擔及技術限制,更無法掌控未來技術的發展藍圖。

國家實驗研究院儀器科技研究中心已投入ALD相關研究逾10年,累積豐厚的技術能量,並已提供學界多套自製ALD系統,今天與台灣積體電路股份有限公司簽訂合作協議,希望能將本身的ALD技術能量推廣到業界,提供半導體製造業ALD製程設備測試與開發驗證的服務平台。

儀科中心表示,「原子層沉積聯合實驗室」平台服務內容包括前驅物的合成與篩選測試、製程測試與驗證服務、客製化ALD設備與腔體開發等。1040304

社群留言