回到頂端
|||
熱門: 蔡阿嘎 韓失業率 小嫻

艾司摩爾EUV微影系統 創生產力紀錄

中央社/ 2015.02.24 00:00
(中央社記者鍾榮峰台北24日電)晶片微影技術廠商艾司摩爾(ASML)表示,極紫外光(EUV)微影系統在台積電刷新EUV微影系統生產力新紀錄。

艾司摩爾今日表示,NXE:3300B極紫外光(EUV)微影系統,在台積電達到單日曝光超過1000片晶圓的目標,再次刷新EUV微影系統生產力紀錄。

艾司摩爾指出,目前台積電已安裝2台NXE:3300B極紫外光微影系統,另有2台新一代極紫外光微影系統NXE:3350B,將於今年完成出貨。原先已安裝的2台NXE:3300B,也將升級到NXE:3350B效能。

根據艾司摩爾與晶片製造商共同規劃的EUV微影系統發展進度,今年底前必須達到單日曝光1000片晶圓,2016年底前,必須達到單日曝光1500片晶圓的生產力,才能符合量產需求。

艾司摩爾指出,對於在今年底前達成單日曝光1000片晶圓的目標,深具信心。

到目前為止,艾司摩爾已累計出貨8台NXE:3300B極紫外光微影系統,跨越單日曝光500片晶圓的門檻。艾司摩爾指出,這間接證明EUV微影系統已可用於10奈米試產。

社群留言