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艾斯摩爾EUV機台獲台積電訂單 明年出貨

鉅亨網/鉅亨網記者蔡宗憲 台北 2014.11.25 00:00
半導體微影技術領導廠艾司摩爾(ASML)(ASML-US)預計2020年營收要成長到100億歐元,每股盈餘更要較目前成長3倍;ASML並宣布,接獲台積電(2330-TW)2台EUV(極紫外光)(NXE:3350B)系統訂單,預計2015年開始出貨,ASML也將協助台機電將今年已出貨的2台EUV量產機台(NXE:3300B),升級至NXE:3500B。

ASML指出,為因應消費市場對於電子產品多功能、小尺寸、低耗電的要求越來越嚴苛,半導體產業持續追求電晶體製程微縮,不僅加速半導體業成長,也成為ASML有信心達到2020年目標之主因。

ASML認為,未來10年內,摩爾定律將持續演進並推動產業成長,而微影技術 (lithography)會是主要的推手。

ASML的主要產品策略包含,深紫外光(DUV)浸潤式系統將持續被用於各種先進製程中的多層曝光;極紫外光(EUV)系統可讓晶片尺寸微縮且製程簡化,將可協助客戶提高邏輯、DRAM和NAND晶片的製造成本效益,時程約落在2016至2017年間。

另外ASML也提供全方位微影解決方案(Holistic Lithography),協助客戶減少微影製程中的各種誤差,進而提高良率。

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