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ASML:2016年EUV量產

中央社/ 2014.09.02 00:00
(中央社記者張建中台北2日電)半導體設備廠艾司摩爾(ASML)亞太區技術行銷協理鄭國偉表示,目前極紫外光(EUV)微影技術在10奈米製程已可有效降低成本,預期2016年可導入量產。

國際半導體展即將於3日登場,主辦單位國際半導體設備材料產業協會(SEMI)搶先於下午舉行展前記者會。

鄭國偉在記者會中指出,目前EUV微影技術發展已可滿足客戶10奈米及7奈米製程研發需求,在10奈米製程已可協助客戶有效降低成本。

鄭國偉說,預計今年底每天可曝光500片,2016年底可望每天曝光1500片,並將順利導入量產。

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