第七條　第8款1.專利、商標、著作或其他智慧財產權之內容:接觸窗的形成方法2.專利、商標、著作或其他智慧財產權之取得日期:103/06/103.取得專利、商標、著作或其他智慧財產權之成本:NT＄191,4544.其他應敘明事項:一種接觸窗的形成方法包括以下步驟：提供基底；形成圖案化的非結晶碳層或旋塗式塗布材料層，其中非結晶碳層或旋塗式塗布材料層的兩側露出基底的表面；在基底上形成層間介電層；移除層間介電層的一部分以露出經圖案化的非結晶碳層或旋塗式塗布材料層；移除經圖案化的非結晶碳層或旋塗式塗布材料層而形成開口；以及對開口填充導電材料而形成接觸窗。