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應材、科磊虎視眈眈+英特爾降財測!漢微科股價腿軟重挫

鉅亨網/鉅亨網記者張旭宏 台北 2013.07.18 00:00
美國設備大廠應材、科磊(KLA)先後宣布推出新世代的缺陷檢測技術,宣示光學檢測技術已深入1X奈米,可能對電子束檢測技術(EBI)為主的漢微科(3658-TW)構成威脅,加上英特爾調降財測,拖累漢微科股價今(18)日腿軟下挫,尾盤更重挫,差一檔跌停,最後收盤來到853元,大跌超過5%。

全球半導體龍頭英特爾、台積電,提早展開10奈米研發,設備大廠應材也趁勢推出最新缺陷檢測及分類技術,力推電子顯微鏡技術的缺陷檢測分析系統,科磊則延續光學檢測技術,推出2910系列光學晶圓缺陷檢測平台,及eDR-7100電子束晶圓缺陷檢測系統,不讓漢微科的EBI獨佔。

漢微科表示,EBI的出現及成長,是因為光學檢測技術遭遇瓶頸,部分高階製程缺陷因光學檢測無法完全檢測,因此客戶採用EBI準確率較高,對每一個晶片的成本優化打造出最佳效益,因此短時間漢微科業績將不會受到影響。

另外,全球半導體大廠英特爾發布調降全年財測與去年持平,全年資本支出下修10億美元,營運支出下修2億美元,在應材及科磊在旁虎視眈眈,加上英特爾調降財測,因此拖累漢微科今股價重挫超過5%。

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