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去年半導體設備支出減16%

中央商情網/ 2013.04.26 00:00
(中央社記者田裕斌台北2013年4月26日電)根據顧能(Gartner)統計,去年全球半導體資本設備支出受到微影(lithography)與沈積(deposition)領域疲弱的影響,約378億美元,較2011年減少16.1%。

顧能表示,動態隨機存取記憶體(DRAM)長期供過於求,轉進NAND之後又造成供過於求,導致產能需求下降,記憶體製造相關的採購大幅減少,邏輯相關的支出也僅能稍微抵銷一點下降力道,因為受到2012下半年整體半導體裝置需求減緩和庫存暴增的影響,製造設備的銷售量從去年第2季至年底為止呈現逐季下滑。

由於沈積及製程控制方面的相對優勢,應用材料(Applied Materials)重新登上第1名寶座;艾司摩爾(ASML)則因微影市場疲弱與極紫外光(EUV)銷售不佳的影響,造成營收下滑;東京威力科創(TEL)同樣受惠於在非微影市場的相對優勢;Lam Research在購併諾發系統(Novellus Systems)之後晉升至第4名。

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