採DDC技術半導體 明年推出
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(中央社記者吳佳穎台北2012年12月16日電)致力開發低功耗互補金屬氧化半導体(CMOS)技術的SuVolta公司表示，富士通半導體採用DDC技術的55奈米製程技產品，預計2013上半年商品化；也是首件採DDC技術的產品。
SuVolta公司透過資料發布表示，深度耗盡通道(DDC)技術在效能及功耗的優勢，可提供富士通半導體65奈米或55奈米製程最優化的效能及功耗組合。預計2013年上半年將技術製程商品化。
兩家公司日前將分別使用富士通半導體的標準製程和DDC技術製造的相同電路進行實驗比較；結果DDC技術可將1.2V供應電壓下的數位電路效能提高約30%，並維持同等功耗，且如將供應電壓降至0.9V，DDC技術則可在保持相同效能時，將功耗降低47%。
SuVolta公司總部位於矽谷，致力於開發和授權可有效降低IC功耗並同時保持其運行效能的可微縮半導體技術。
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