（圖示：http://photos.prnewswire.com/prnh/20100504/MILOGO）
Molecular Imprints 總裁兼首席執行官 Mark Melliar-Smith 表示：「這份多範本訂單是我們的客戶為 J-FIL在生產前最後準備階段的使用所投上的信任的一票。我們的設備和商用面具合作夥伴與內部團隊已經對開發活動進行了成功協調，並在去年取得了巨大的進步，特別是在減少不合格和降低整體擁有成本( http://www.molecularimprints.com ) (CoO) 方面有了很大的改善。我們期待著J-FIL 技術下一步的商業化進程，希望能為這個半導體儲存器接下來幾年的發展提供支援。」
該公司的 J-FIL(TM) 技術已經展示了24奈米圖案結構，其刻線邊緣粗糙度小於2奈米（3西格瑪），臨界尺寸均勻性為1.2奈米（3西格瑪），可擴展至10奈米，使用的是簡單的單一圖案工藝。J-FIL 避免了功率受限的遠紫外線( http://www.molecularimprints.com ) (EUV) 光源、複雜的光學透鏡和鏡面以及利用超靈敏光致抗蝕劑讓圖案成形的難度，這些固有的擁有成本優勢使其非常適合用於半導體儲存器的製造。
Molecular Imprints, Inc. 簡介
Molecular Imprints, Inc. (MII) 是高解析度與低擁有成本奈米圖案成形系統和解決方案的技術領導商。MII 將利用其創新的 Jet and Flash(TM) 壓印光刻 (J-FIL(TM)) 技術成為半導體儲存設備大批量圖案成形解決方案的全球市場和技術領導商，並為新興市場顯示器、清潔能源、生物技術等產業的發展提供支援。MII 透過提供價格適中、可相容且可擴展至小於10奈米規格的全方位奈米圖案成形解決方案來支援奈米刻度圖案的形成。諮詢詳情或關注該公司的推特，請閱覽：www.molecularimprints.com。
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