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台積電:本公司與艾司摩爾長期夥伴關係再啟新頁攜手開發下一世代微影技術

鉅亨網/鉅亨網新聞中心 2012.08.05 00:00
第二條 第49款1.事實發生日:101/08/052.公司名稱:台灣積體電路製造股份有限公司。3.與公司關係(請輸入本公司或聯屬公司):不適用。4.相互持股比例:不適用。5.發生緣由:不適用。6.因應措施:不適用。7.其他應敘明事項:本公司今(5)日宣佈加入荷蘭艾司摩爾(ASML)公司「客戶聯合投資專案」(Customer Co-Investment Program),希望加速下一世代關鍵半導體製造技術—極紫外光(EUV)微影技術與450mm(18吋)晶圓微影設備的開發及量產。根據協議,本公司將投資ASML8.38億歐元以取得該公司5%股權,同時並承諾未來五年共投入2.76億歐元支持ASML的研發計畫。本公司執行副總經理暨共同營運長蔣尚義博士表示:「縮小積體電路尺寸(IC scaling)目前所面臨的最大挑戰之一,在於如何有效控制日益攀升的晶圓製造成本。我們相信挹注ASML研發經費將確保並加快EUV微影技術的開發,同時也能提高既有光學微影工具的效能,促進450mm晶圓製造技術的快速發展。這項努力將有助半導體產業控制晶圓成本,保障摩爾定律持續演進可帶來的經濟效益。」ASML執行長Eric Meurice指出:「歡迎台積公司加入我們今年七月九日公佈的『客戶聯合投資專案』,其目的是為了讓關鍵微影技術的發展順利且加速進行。這些技術不僅將使我們的投資夥伴受益,整個半導體產業也得以受惠。」ASML與本公司延續之前193微米浸潤式微影技術的成功經驗,希望繼續攜手領先業界開發下一世代關鍵微影技術,本次合作是ASML與本公司長期夥伴關係的自然延伸。

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