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與蘋果和解? 三星先試水溫

中央社/ 2012.05.18 00:00
(中央社記者吳佳穎台北18日電)國外科技網站報導,美國法官要求專利熱戰的宏達電與蘋果舉行和解會議,分析師表示,宏達電要迴避侵權專利技術不難,雙方是否可朝和解邁進,下周蘋果與三星的會議或可供參考。

宏達電與美國蘋果公司(Apple)的專利戰已開始產生對營運的實質影響,本周宏達電最新機種HTC One X和Evo 4G LTE兩款手機,因美國國際貿易委員會(ITC)的禁止進口令,遭美國海關攔阻,進行程序審查。

宏達電表示,銷美機種都有進行專利設計迴避,正與美國海關合作加速審查程序。

雙方專利戰火緊繃延燒,但據國外科技網站Appleinsider報導,美國德拉瓦州地方法院出面調和,要求蘋果與宏達電在今年8月28日談專利和解。

這不是頭一遭美國法官要求專利戰的兩造和解,事實上,稍早美國法官就要求蘋果與三星電子(Samsung Electronics)談專利和解;而根據專利部落格FOSS Patents報導,蘋果與三星電子將於21、22日參加在舊金山法院召開的和解會議,以解決雙方專利糾紛,傳蘋果執行長庫克及三星執行長崔志成都將出席。

庫克曾在今年蘋果財報會表示,願意與競爭對手在專利訴訟上達成某種程度的和解,不過他也將致力保護蘋果的智財權;至於蘋果真正願與競爭對手達成什麼樣程度的和解,下周蘋果與三星的和解會議可見端倪。

ITC去年裁定,宏達電侵犯蘋果的資料偵測(datadetection)專利,可讓手機辨識電郵信箱、電話號碼、地址後自動將其移往行事曆、撥號鍵盤及地圖程式。這也是宏達電此次銷美機種遭海關攔阻的原因。

分析師表示,這項專利要迴避並不困難,宏達電應該也早就避開這個專利地雷;下周先和蘋果談的三星會是重要參考,試探蘋果對於專利戰的態度,同時也評估和解利弊。

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